半導體膜厚測試儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。具有強抗干擾性，高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法，復雜環境下測量穩定，靈活易適配，支持自定義膜結構測量，設備小巧易安裝，配套軟件及二次開發包，適配實驗室/產線多場景。
反射式光學膜厚儀具有強抗干擾性，高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法，復雜環境下測量穩定，靈活易適配，支持自定義膜結構測量，設備小巧易安裝，配套軟件及二次開發包，適配實驗室/產線多場景。
非接觸式膜厚測量儀精準測量，支持20nm超薄膜厚檢測，準確度±1nm、重復精度0.05nm，滿足精密檢測需求，高速采樣，最高采樣速度100Hz，適配產線快速檢測，提升測量效率，寬光譜覆蓋，采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚。
光學膜厚儀廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業提升產品質量與研發效率。
反射膜厚測量儀廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業提升產品質量與研發效率。
反射膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。
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