更新日期:2026-03-10
非接觸式膜厚測量儀精準測量,支持20nm超薄膜厚檢測,準確度±1nm、重復精度0.05nm,滿足精密檢測需求,高速采樣,最高采樣速度100Hz,適配產線快速檢測,提升測量效率,寬光譜覆蓋,采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚。
當AR眼鏡鍍膜出現0.3納米厚度不均,光學畸變率將激增40%;當鋰電池隔膜厚度波動超過標準值,過充風險概率呈指數級上升。針對精密制造領域的檢測困境,反射膜厚儀給出系統性解決方案:其0.8nm級光學分辨率可捕捉超薄涂層微觀變化,100次/秒采樣速率匹配高速產線節拍,IP54防護等級設計支持-20℃~60℃寬溫域工作。更關鍵的是,設備內置的智能膜層建模系統,無需復雜校準即可完成從OLED蒸鍍到汽車窗膜的200余種材料檢測,將檢測周期從2小時壓縮至8分鐘。
一、產品簡介
非接觸式膜厚測量儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。
二、應用領域
廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業提升產品質量與研發效率。
三、測試原理
非接觸式膜厚測量儀基于白光干涉原理工作,光源發出的寬帶光入射至待測薄膜表面后,經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉,干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息,設備通過探頭采集干涉后的反射光譜,對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后,即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數,整個系統由高強度組合光源提供寬光譜入射光,經光學系統傳輸至樣品,反射光返回后由高速光譜模塊采集信號,最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。
四、產品特點
1. 精準測量:支持20nm超薄膜厚檢測,準確度±1nm、重復精度0.05nm,滿足精密檢測需求;
2. 高速采樣:采樣速度100Hz,適配產線快速檢測,提升測量效率;
3. 寬光譜覆蓋:采用氘鹵組合光源,光譜覆蓋紫外至近紅外,可解析單層/多層膜厚;
4. 強抗干擾性:高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法,復雜環境下測量穩定;
5. 靈活易適配:支持自定義膜結構測量,設備小巧易安裝,配套軟件及二次開發包,適配實驗室/產線多場景。
五、技術參數
| 型號 | HD-FT50UV | HD-FT50NIR |
| 建議工作距離 | 非聚焦光束,安裝距離5至10mm | 安裝側面出光附加鏡時:34.5mm±2mm; 軸向出光時:55mm±2mm; |
| 測量角度 | ±10° | ±5° |
| 光斑類型 | 彌散光斑;在10mm安裝距離時,光斑直徑約為4mm; | 聚焦光斑;約200μm |
| 探頭外徑*長度 | Φ6.35*3200mm3 | Φ20*73mm |
| 探頭重量 | 190g | 108g(探頭)、49g(附加鏡) |
| 光源類型 | 氘鹵光源 | 鹵素光源 |
| 波長范圍 | 190-1100nm | 400-1100nm;1000-1700nm |
| 測厚范圍 | 約20nm~50μm(折射率1.5時) | 約50nm~50μm(折射率1.5時) |
| 適配探頭 | UV-VIS | VIS-NIR軸向; VIS-NIR徑向;(標配其一) |
